高真空电子束蒸发镀膜机（pvd真空镀膜设备）是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多层膜或掺杂膜；可镀各种高熔点材料。
可用于生产、科学实验及教学，可根据用户要求专门订制。
可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式, 通过plc 和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制, 包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和bz产品的一致性和稳定性。
设备特点
设备具有真空度高、抽速快、基片装卸方便的特点，配备 e 型电子束蒸发源和电阻蒸发源。pid自动控温，具有成膜均匀、放气量小和温度均匀的优点。
可根据用户使用要求，选配石英晶体膜厚自动控制及光学膜厚自动控制两种方式,通过plc和工控机联合实现对整个镀膜过程的全程自动控制,包括真空系统、烘烤系统、蒸发过程和膜层厚度的监控功能等，从而提高了工作效率和bz产品的一致性和稳定性。
真空性能
jx真空：7×10
设备总体漏放率：关机12小时，≤10pa
恢复工作真空时间短，dq至7×10
高真空电子束蒸发镀膜机（电子束蒸发镀膜机）设备构成
e 型电子束蒸发枪、电阻热蒸发源组件（可选配）、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵真空机组或低温泵真空机组、旋转基片加热台、工作气路、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。
可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。
热蒸发源种类及配置
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项目 |
参数 |
备注 |
|---|---|---|
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e 型电子束蒸发系统 |
1套 |
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功率 |
6kw～10kw |
其它功率(可根据用户要求选配） |
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坩埚 |
1～8只 |
可根据用户要求选配 |
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电阻热蒸发源组件 |
1～4套 |
（可根据用户要求配装） |
电阻热蒸发源种类
-钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件
-石英舟热蒸发源组件
-钨极或钨蓝热蒸发源组件
-钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）
-束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）
操作方式
手动、半自动
1-3-6-3-2-7-5-0-0-1-7
本公司主营： pvd物理气相沉积 - cvd化学气相沉积 - 分子束外延系统mbe - PVD真空镀膜设备 - 热丝CVD金刚石设备
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