高真空电阻热蒸发镀膜机（pvd真空镀膜设备）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于材料的物理和化学研究；可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、oled实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。
设备构成
-单镀膜室
-单镀膜室＋进样室
-单镀膜室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）
-单镀膜室＋进样室＋手套箱（可将镀膜室放在手套箱内）
-多镀膜室＋样品传递室＋手套箱（组成团簇式结构，样品传递采用真空机械手）
设备组成
电阻热蒸发源组件、样品掩膜挡板系统、真空获得系统及真空测量系统、分子泵（或冷泵）真空机组、旋转基片加热台、工作气路、手套箱连接部件、样品传递机构，膜厚控制系统、电控系统、恒温冷却水系统等组成。
热蒸发源类型和数量，可根据用户需要进行配置。
可选件：膜厚监控仪，恒温制冷水箱。
热蒸发源种类及配置
电阻热蒸发源组件：数量：1～12套（可根据用户要求配装）；
电阻热蒸发源种类：钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件、石英舟热蒸发源组件、钨极或钨蓝热蒸发源组件、钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚）、束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚）。
高真空电阻热蒸发镀膜机（高真空镀膜机） 工作条件（实验室应具备的设备工作条件）
供电：4kw，三相五线制～ ac 380v
工作环境湿度：10℃～ 40℃
工作环境温度：≤50%
冷却循环水：
水压：0.15mpa ～ 0.25mpa
真空性能
jx真空：7×10
设备总体漏放率：关机12小时，≤10pa
操作方式
手动、半自动
1-3-6-3-2-7-5-0-0-1-7
本公司主营： pvd物理气相沉积 - cvd化学气相沉积 - 分子束外延系统mbe - PVD真空镀膜设备 - 热丝CVD金刚石设备
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