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供应信息
产品名称 供应鹏城半导体多功能磁控溅射仪非标定制距离角度可调
发布时间 2024-3-5
多功能磁控溅射仪（高真空磁控溅射仪）是用磁控溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。
产品名称 供应鹏城半导体热丝CVD金刚石制备设备
发布时间 2024-3-5
鹏城半导体技术（深圳）有限公司（简称：鹏城半导体）研发设计制造了热丝cvd金刚石设备（hfcvd 热丝法化学气相沉积设备），分为实验型设备和生产型设备两类。 设备主要用于微
产品名称 供应 鹏城半导体 分子束外延系统mbe
发布时间 2024-3-5
分子束外延薄膜生长设备（mbe)（分子束外延mbe）该设备可以在某些衬底上实现外延生长工艺，实现分子自组装、超晶格、jz阱、一维纳米线等。可以进行第二代半导体和第三代半导体的工艺验证和外延片的生长制造
产品名称 供应 鹏城半导体 高真空电子束蒸镀机 PVD真空镀膜设备非标定制
发布时间 2024-3-5
高真空电子束蒸发镀膜机（pvd真空镀膜设备）是在高真空条件下，采用电子束轰击材料加热蒸发的方法，在衬底上镀制各种金属、氧化物、导电薄膜、光学薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬膜等；可镀制混合物单层膜、多
产品名称 供应 鹏城半导体 高真空电阻热蒸发镀膜机
发布时间 2024-3-5
高真空电阻热蒸发镀膜机（pvd真空镀膜设备）采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。可用于生产和科学实验，可根据用户要求专门订制；可用于
产品名称 供应 鹏城半导体 PECVD等离子增强化学气相沉积 非标定制
发布时间 2024-3-5
pecvd设备（等离子体增加强化学气相沉积pecvd）主要用于在洁净真空环境下进行氮化硅和氧化硅的薄膜生长；采用单频或双频等离子增强型化学气相沉积技术，是沉积高的氮化硅、氧化硅等薄膜的理想工艺设备。
产品名称 供应 鹏城半导体 lpcvd设备 低压化学气相沉积设备
发布时间 2024-3-5
小型lpcvd设备（低压化学气相沉积设备）简介 lpcvd是在低压高温的条件下，通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜（主要是si3n4、sio2及poly硅薄膜）。可用于科学研究、
产品名称 供应 鹏城半导体 MOCVD金属有机化学气相沉积设备
发布时间 2024-3-5
材料的输运采取了超纯的气路系统，源的切换和输入采用了多路组合阀进气技术。由于组合阀具有极小的死空间，使得源的残留量非常少，有利于生长具有陡峭界面的材料。 采用压差控制技术控制组合阀的旁
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